GDL-B-II可編程管式干餾爐
上海雙旭GDL-B-II可編程管式干餾爐
產品概述
GDL-B-II可編程管式干餾爐是一款實驗室用高溫熱處理設備，主要用于材料在惰性或反應性氣氛下的干餾、燒結、退火等工藝。其核心特點是采用可編程控制器，能夠精確控制升溫、保溫和降溫過程。
產品參數
- 型號：GDL-B-II
- 最高溫度：通常為1200℃（具體取決于加熱元件和爐管材質）
- 爐管尺寸：常見規格如Φ60×1000mm（直徑×加熱區長度，具體可選）
- 加熱元件：電阻絲（如硅碳棒、硅鉬棒等）
- 控溫系統：可編程PID溫度控制器，多段程序設定
- 控溫精度：±1℃
- 升溫速率：可編程設定，例如0-20℃/min
- 電源：交流220V/380V，功率根據型號而定（如3-6kW）
- 氣氛系統：可連接真空、惰性氣體（如N2、Ar）或反應氣體，配備流量計、進氣/出氣接口
- 結構：立式或臥式設計，雙層殼體風冷結構
使用注意事項
- 安全操作：設備必須接地，操作時佩戴高溫防護手套和護目鏡，防止燙傷和熱輻射。
- 氣氛控制：通入惰性氣體前需確保管路密封性，避免氧氣進入引起材料氧化或爆炸風險；使用易燃易爆氣體時需額外配備安全閥和排空裝置。
- 溫度管理：嚴禁超過額定最高溫度運行，程序設定需符合材料熱處理曲線，避免急劇升溫損壞爐管或樣品。
- 樣品放置：樣品應置于爐管恒溫區內，使用合適的坩堝或舟皿，避免與爐管內壁接觸。
- 維護保養：定期檢查加熱元件、熱電偶和密封件狀態，爐管積碳或污染需及時清理，保持爐體周圍通風散熱良好。
- 停機程序：高溫運行后需按程序自然降溫，禁止立即關閉氣氛或強制冷卻，以防爐管炸裂。
應用領域
適用于高校、科研院所及企業的材料科學、化學、冶金等領域，常用于陶瓷燒結、催化劑制備、納米材料合成、電池材料熱處理等實驗。
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