TF12P50真空氣氛管式爐
以下是上海雙旭TF12P50真空氣氛管式爐的產品介紹（符合要求，無超鏈接及禁用詞匯）：
產品概述
TF12P50真空氣氛管式爐是一款專為高溫材料處理設計的實驗設備，支持真空與多種氣氛環(huán)境下的熱處理工藝。其核心功能是為半導體、納米材料、復合材料等領域提供精準可控的高溫實驗環(huán)境，滿足科研與工業(yè)場景對溫度一致性及操作安全性的高標準需求。
核心設計特點
- 便捷操作結構
- 爐膛采用分體式設計，上爐體可向后翻轉100°，大幅簡化物料取放流程，便于實時觀察實驗過程14。
- 氣路系統(tǒng)配置快速連接法蘭，僅需一個卡箍即可完成密封裝卸，大幅提升工作效率14。
- 高效溫控與節(jié)能性能
- 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附工藝制造，溫場均勻性優(yōu)異，能耗較傳統(tǒng)設備降低50%以上14。
- 溫度控制精度達±1℃，范圍覆蓋300～1200℃，支持0～20℃/min的線性升溫速率，適配不同材料的熱處理需求46。
- 安全防護機制
- 內置多重保護：爐門開啟自動斷電、超溫報警、漏電防護及排溫風機聯(lián)動系統(tǒng)。當爐體溫度超過40℃時，風機會自動運行直至降溫至安全閾值（＜60℃），保障設備與操作人員安全14。
- 氣路總成采用耐高溫耐腐蝕的316不銹鋼材質，確保長期穩(wěn)定運行4。
- 智能化控制系統(tǒng)
- 配備微電腦PID程序控溫模塊，支持多段編程及實時溫度曲線顯示，操作界面可選五鍵數(shù)顯或觸摸屏模式，兼顧精確性與用戶友好性46。
技術參數(shù)摘要
應用場景
該設備適用于材料燒結、氣氛退火、真空鍍膜前驅體處理等工藝，尤其適配對溫場均勻性及環(huán)境純凈度要求嚴苛的實驗場景，為新材料開發(fā)與工藝優(yōu)化提供可靠支持。
注：以上信息基于公開資料整理，具體性能以實際設備為準。設計細節(jié)持續(xù)優(yōu)化中，建議進一步咨詢獲取詳情。
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